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半導(dǎo)體晶體玻璃清洗LSA雷士清洗機(jī)

時(shí)間:2017-10-13    點(diǎn)擊: 次    來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)    作者:佚名 - 小 + 大

LSA雷士碳?xì)涑暡ㄇ逑礄C(jī)

應(yīng)用范圍

液晶顯示器件,半導(dǎo)體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、帶氧化膜的金屬材料等主要材料玻璃、光學(xué)玻璃。

去除污垢:有機(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑、聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余光刻膠等。

在真空狀態(tài)下進(jìn)行清洗、干燥和蒸餾再生過(guò)程中,由于含氧量很低,雖然溫度達(dá)到或超過(guò)碳?xì)淙軇┑拈W點(diǎn)也不會(huì)燃燒,保證了使用的安全。


超聲波清洗機(jī)的特點(diǎn):

1在液體中清洗的方式,清洗后臟污留在液體中

2可徹底清除物體表面的碳和有機(jī)污染物。

3清洗后的液體排放掉,重新?lián)Q上新液體

4保證產(chǎn)品工件的高可靠性和高成品率

5產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度非常一致

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